1.半导体
齐纳击穿的机理
加大反向电压,反向电流加大
击穿电压
齐纳击穿 特点
T升高
U击穿电压 下降
雪崩击穿
碰撞电离
特点击穿电压高于6V
1.1.4 PN结的反向击穿
PN结的反向偏置,PN结呈现高阻,截止状态
加大反向电压,PN结出现大电流 因为当PN结反向偏置电压超过一定值时,反向电流急剧增大,PN结被反向击穿。
根据反向击穿的机理不同: 1.齐纳击穿 2. 雪崩击穿
1.齐纳击穿
条件1. 半导体的掺杂浓度高,PN结薄 较低反向电压就可以使空间电荷中就有较强的电场。
齐纳击穿的机理:
电场将PN结的价电子从共价键中激发出来。
形成原因:价电子受激发
击穿的特点:
1.击穿电压一般低于4V
2.击穿电压具有负的温度系数
负温度系数:
当温度升高时,所需的击穿电压 降低, 温度升高,击穿电压下降
正温度系数:
当温度升高时,所需的击穿电压升高。
温度升高击穿电压升高
2.雪崩击穿
条件1.半导体的掺杂浓度低,PN结厚
需要更高电压才能使空间电荷区产生较强的电场
雪崩击穿的机理;
电场使PN结中的少子“碰撞电离”共价键中的价电子。
形成原因:少子加速碰撞电离
雪崩击穿的特点:
1.击穿电压一般高于6V.
2. 击穿电压具有正的温度系数